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正在进行安全检测...

发布时间：2023-11-22 12:55:07 来源：文档文库

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摩爾定律越跑越遠，四大半導體商聯手追趕
日期:2013/01/30分類:科技|評論:0Comments點閱數：9,549

摩爾定律（Moore’slaw）預測，每隔18個月晶片上電晶體數量成長一倍**。這項定律成功預測半導體產業近五十年。不過，當晶片線寬（IC產業能製造的最小導線寬度）縮小到20nm以下，有人認為摩爾定律將無法繼續預測半導體產業，甚至有物理學家宣判摩爾定律將會完全失效。
摩爾定律真的失去魔力了嗎？
摩爾定律的瓶頸–光源
摩爾定律為Intel創辦人GordonMoore在1965年發表，儘管他本人不認為這是一個定律，而是預測。Intel以這項定律為發展藍圖，持續以財務優勢和技術創新，把競爭者狠狠甩在後面。

1965年GordonE.Moore的「摩爾定律」原稿。資料來源：Intel
但最近摩爾定律由於顯影（Lithography）技術障礙受到挑戰。這個技術障礙有點類似要學生在米粒上畫圖。要畫出一幅很小很小的圖，有三個要素：很小的米粒、更小的筆尖、跟穩定的墨水供應。
在半導體業中，米粒就是晶片，筆尖就是光波長，墨水就是光源強度。晶片（米粒）可以一直縮小，但目前的顯影技術障礙是指光無法兼具波長（筆尖）小且光源強度（墨水）穩定。目前已成功製造波長夠小的光源，但光源強度仍未達商業化的標準。而且提高光源強度（影響曝光速率）同時還必須考慮穩定度，畢竟筆寫到一半沒墨水頗麻煩的。
產業界計畫使用193nm（ArF）光源搭配浸潤式顯影（Immersionlithography）技術製造20nm晶片。Intel今年著手製造14nm晶片，並計畫於2015年製造10nm晶片。然而，下一代顯影技術尚未成熟，14nm效能提升或許只有以往的一半。
比利時微電子中心（InteruniversityMicroelectronicsCentre）總裁LucvandenHove預估以193nm搭配浸潤式顯影製造14nm晶片，成本將會超過28nm技術的90％以上。成本上升主因是曝光顯影技術，在極小線寬下，需要多次曝光顯影，且誤差率也會提高，造成時間與金錢成本大幅上升。

本文来源：https://www.2haoxitong.net/k/doc/d3f7b3896bd97f192379e994.html