试论微电子技术发展面临的限制及发展前景作者：金凤侠来源：《名城绘》2018年第10期
摘要：微电子技术是社会发展的产物，是科学技术发展的结晶，也是电子信息领域的关键技术。随着科学技术的不断发展，产生了不同的新型技术。在众多新型技术中，微电子技术是应用效果最好、渗透性较强的技术，对航天领域、通讯利用和计算机产业的发展具有较大影响。
关键词：微电子技术；限制；发展前景
1微电子技术发展面临的限制
1.1微电子技术的材料限制
现阶段，微电子技术在实际应用过程中，主要应用的材料为单晶硅材料和多晶硅材料。单晶硅材料和多晶硅材料实际应用性能的决定性因素包括介电常数、载流子的运作率、载流子的运作速度和饱和度、热导能力和电场的效力等。微电子技术在实际应用过程中处于高度集成状态时，会受到介电常数、载流子的运作率、载流子的运作速度和饱和度、热导能力和电场的效力的限制，导致降低微电子技术的实际应用性，阻碍微电子技术的发展。
1.2微电子技术的工艺限制
对微电子技术来说，实际运作工艺包括微细线条工艺、离子注入工艺、薄膜淀积工艺和光刻技术工艺等。光刻技术工艺是微电子技术的主要技术工艺，微电子技术在实际应用过程中主要面临限制的是光刻技术工艺。在1978年初，大众普遍认为光学技术局限在1微米之内，随着社会的发展，光电技术在实际应用的过程中延伸到了0.06微米。
2微电子技术的长远发展
2.1改进制造工艺
伴随制作工艺的稳步提高，技术上取得了很大的创新成就，从平层的平面分布逐步发展到现在多层的多功能高密度工艺，由此微电子制造技术将朝向多功能化发展。人工超晶格工艺制作得到的器件是超晶格的半导体器件，这种元件最大的优势在于速度远超过普通导体，其速度约为普通硅半导体的10倍到100倍。在敏感集成电路中尽量缩小控制器件体积，不仅能够有效节约成本，还能让器件稳定性得到大幅提升。在集成度得到提高的同时，光刻技术也得到了良好的发展。由于透镜分辨率的提高、光刻技术的提高、光刻中出现的问题被有针对性地解决，微电子产品性能得以更充分地完善。现代的集成电路发展将逐渐呈现出摩尔定律结构，由原先的二维集成逐渐转变为三维集成，这能在很大程度上实现集成电路的重大突破。除此之外，微电子技术将向绿色化发展，向绿色化发展不仅是微电子技术的发展核心，更是社会需求导向。微电子技术中消耗的能源将得到有效控制，未来微电子技术的发展方向将以绿色环保为目标，这也是我国建设可持续发展型社会的必然要求。
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