财政部税関総署国家税务総局の研究开発机构の设备调达の税収政策に関する通知

发布时间：2010-11-09 11:31:33 来源：文档文库

小中大

字号：

手机查看

◆財政部税関総署国家税務総局の研究開発機構の設備調達の税収政策に関する通知

公布部門：財政部税関総署国家税務総局
文書番号：財税[2009]115 号
公布日付：2009年10月10日
実施日付：2009年7月1日至2010年12月31日}
全訳：

各省、自治区、直轄市、計画単列市財政庁(局)、国家税務局、新疆生産建設兵団財務局、税関総署広東分署、各直属税関：

科学研究及び技術開発を奨励し、科学技術進歩を促進するため、国務院の批准を経て、外資研究開発センターの輸入科学技術開発用品に対し輸入税収を徴収免除とし、内資・外資研究開発機構の国産設備調達に対し増値税を全額還付する。ここに関係事項について下記の通り具体的に明確にする。

一、外資研究開発センターには《科学技術開発用品輸入税収徴収免除暫行規定》(財政部、税関総署、国家税務総局令第44 号) を適用して輸入税収の徴収を免除するが、その設立日に応じそれぞれ下記の条件を満たさなければならない。

(一)2009 年9 月30 日及びそれ以前に設立された外資研究開発センターについては、同時に下記の条件を満たさなければならない。

1．研究開発費用標準：(1)新設で2 年未満の外資研究開発センターで独立法人としての場合、その投資総額は500 万ドルを下回らない。会社に付設された部門または分公司としての場合、その研究開発総投入額は500 万ドルを下回らない。(2)設立から2 年以上の外資研究開発センターについては、企業の研究開発経費の年支出額はl000 万元を下回らない。

2．専門研究職、テストリサーチ職は90 人を下回らない。

3．設立以来購入した設備原価の価格累計は1,000 万元を下回らない。

(二)2009 年10 月1 日及びそれ以後に設立された外資研究開発センターについては、同時に下記の条件を満たさなければならない。

1．研究開発費用標準：独立法人としての場合、その投資総額は800 万ドルを下回らない。会社に付設された部門または分公司の場合は、その研究開発総投入は800 万ドルを下回らない。

2．専門研究職、テストリサーチ職は150 人を下回らない。

3．設立以来購入した設備原価の価格累計は2,000 万元を下回らない。

具体的な審査方法は商務部が財政部、税関総署、国家税務総局と共同で別途制定する。

二、国産設備調達の増値税全額還付政策を適用する内資・外資研究開発機構には次のものを含む。

(一)《科学技術開発用品輸入税収徴収免除暫行規定》(財政部、税関総署、国家税務総局令第44 号)が規定する科学研究、技術開発機構。

(二)《科学研究及び教育用品輸入税収徴収免除規定》(財政部、税関総署、国家税務総局令第45 号)が規定する科学研究機構及び学校。

(三)本通知第一条に規定する条件に合致する外資研究開発センター。

具体的な租税還付管理方法は国家税務総局が財政部と共同で別途制定する。

三、本通知がいうところの設備とは、本通知付属文書に列記する科学研究、教育及び科学技術開発のために必要な条件を提供する実験設備、装置及び器械をいう。

四、本通知の執行期限は2009 年7 月1 日より2010 年12 月31 日とする。

付属文書：科学技術開発、科学研究及び教育設備リスト

付属文書：

科学技術開発、科学研究及び教育設備リスト

科学研究、教育及び科学技術開発のために必要条件を提供する実験設備、装置及び器械(パイロットテスト設備は含まず)で、具体的には以下の三種が含まれる。

一、実験環境方面

(一)教育実験計器及び装置。
(二)教育レクチャー、デモンストレーション計器及び装置。
(三)クリーン設備(換気、滅菌、純水、浄化設備等)。

(四)特殊実験環境設備（超低温、超高温、高圧、低圧、耐腐食設備等）。

(五)特殊電源、光源(電極、スイッチ、コイル、各種光源等)。

(六)清浄循環設備。

(七)恒温設備(水浴、恒温ボックス、滅菌器等)。

(八)小型粉砕、研磨調製設備。

二、サンプル調製設備及び装置

(一)特種ポンプ類(分子ポンプ、イオンポンプ、真空ポンプ、顫動ポンプ、タービンポンプ、ドライポンプ等)。

(二)培養設備(培養箱、発行罐等)。

(三)微量サンプル採取設備(移液管、サンプル採取器、精密天秤等)。

(四)分離、純化、濃縮設備(遠心分離機、クロマトグラフィー、クロマトグラフ、抽出・結晶設備、ロータリーエバポレーター等)。

(五)気体、液体、固体混合設備(ロータリー混合器等)：

(六)気体生成設備、気体圧縮設備：

(七)専用サンプル製造設備(スライサー、ペレッター、コーター、イオンミリング、ポリッシャー等)、実験用射出、押出、造粒、膜圧設備：実験室サンプル前処理設備。
(八)実験室専用小器具(ディスペンサー、計量具、循環器、清浄器、工具等)。

三、実験室専用設備

(一)特殊カメラ及び撮影設備(水中、高高度、高温、低温等)。

(二)科学研究用飛行機、船舶用キー設備及びパーツ。

(三)特殊データ記録設備及び材料(大幅面スキャナ、大幅面プロッタ、テープドライブ、ディスクドライブ等)：

(四)特殊電子パーツ(回路板、特殊晶体管、専用集積回路等)。
(五)材料科学専用設備(ゲルドライヤー、特殊るつぼ、セラミックス、図形転換設備、製版用ドライボード、特殊等イオン体源、イオン源、外延炉、拡散炉、スプッター、イオンエッチャー、材料実験機等)、信頼性試験設備、微電子加工設備、通信シミュレーション設備、通信環境試験設備。
(六)小型溶解設備(真空、粉末、エレクトロスラグ等)、特殊ハンダ設備。
(七)小型染色仕上、製糸試験専用設備。
(八)電気生理設備。

各省、自治区、直辖市、计划单列市财政厅(局)、国家税务局，新疆生产建设兵团财务局，海关总署广东分署、各直属海关：
　　为了鼓励科学研究和技术开发，促进科技进步，经国务院批准，对外资研发中心进口科技开发用品免征进口税收，对内外资研发机构采购国产设备全额退还增值税。现将有关事项具体明确如下：
　　一、外资研发中心适用《科技开发用品免征进口税收暂行规定》(财政部、海关总署、国家税务总局令第44号)免征进口税收，根据其设立时间，应分别满足下列条件：
　　(一)对2009年9月30日及其之前设立的外资研发中心，应同时满足下列条件：
　　1．研发费用标准：(1)对新设立不足两年的外资研发中心，作为独立法人的，其投资总额不低于500万美元；作为公司内设部门或分公司的，其研发总投入不低于500万美元；(2)对设立两年及以上的外资研发中心，企业研发经费年支出额不低于l000万元。
　　2．专职研究与试验发展人员不低于90人。
　　3．设立以来累计购置的设备原值不低于1000万元。
　　(二)对2009年10月1日及其之后设立的外资研发中心，应同时满足下列条件：
　　1．研发费用标准：作为独立法人的，其投资总额不低于800万美元；作为公司内设部门或分公司的，其研发总投入不低于800万美元。
　　2．专职研究与试验发展人员不低于150人。
　　3．设立以来累计购置的设备原值不低于2000万元。
　　具体审核办法由商务部会同财政部、海关总署、国家税务总局另行制定。
　　二、适用采购国产设备全额退还增值税政策的内外资研发机构包括：
　　(一)《科技开发用品免征进口税收暂行规定》(财政部、海关总署、国家税务总局令第44号)规定的科学研究、技术开发机构。
　　(二)《科学研究和教学用品免征进口税收规定》(财政部、海关总署、国家税务总局令第45号)规定的科学研究机构和学校。
　　(三)符合本通知第一条规定条件的外资研发中心。
　　具体退税管理办法由国家税务总局会同财政部另行制定。
　　三、本通知所述设备，是指本通知附件所列的为科学研究、教学和科技开发提供必要条件的实验设备、装置和器械。    ’
　　四、本通知执行期限为2009年7月1日至2010年12月31日。

　　附件：科技开发、科学研究和教学设备清单

　　                                                                              财政部海关总署国家税务总局
　　                                                                                                二00九年十月十日
　　附件：
　　                                              科技开发、科学研究和教学设备清单

　　为科学研究、教学和科技开发提供必要条件的实验设备、装置和器械(不包括中试设备)，具体包括以下三类：
　　一、实验环境方面
　　(一)教学实验仪器及装置；
　　(二)教学示教、演示仪器及装置；
　　(三)超净设备(如换气、灭菌、纯水、净化设备等)；
　　(四)特殊实验环境设备(如超低温、超高温、高压、低压、强腐蚀设备等)；
　　(五)特殊电源、光源(如电极、开关、线圈、各种光源等)；
　　(六)清洗循环设备；
　　(七)恒温设备(如水浴、恒温箱、灭菌仪等)；
　　(八)小型粉碎、研磨制备设备。
　　二、样品制备设备和装置
　　(一)特种泵类(如分子泵、离子泵、真空泵、蠕动泵、蜗轮泵、干泵等)；
　　(二)培养设备(如培养箱、发酵罐等)；
　　(三)微量取样设备(如移液管、取样器、精密天平等)；
　　(四)分离、纯化、浓缩设备(如离心机、层析、色谱、萃取、结晶设备、旋转蒸发器等)；
　　(五)气体、液体、固体混合设备(如旋涡混合器等)；
　　(六)制气设备、气体压缩设备；
　　(七)专用制样设备(如切片机、压片机、镀膜机、减薄仪、抛光机等)，实验用注射、挤出、造粒、膜压设备；实验室样品前处理设备；
　　(八)实验室专用小器具(如分配器、量具、循环器、清洗器、工具等)。
　　三、实验室专用设备
　　(一)特殊照相和摄影设备(如水下、高空、高温、低温等)；
　　(二)科研飞机、船舶用关键设备和部件；
　　(三)特种数据记录设备及材料(如大幅面扫描仪、大幅面绘图仪、磁带机、光盘机等)；
　　(四)特殊电子部件(如电路板、特种晶体管、专用集成电路等)；
　　(五)材料科学专用设备(如干胶仪、特种坩埚、陶瓷、图形转换设备、制版用干板、特种等离子体源、离子源、外延炉、扩散炉、溅射仪、离子刻蚀机，材料实验机等)，可靠性试验设备，微电子加工设备，通信模拟仿真设备，通信环境试验设备；
　　(六)小型熔炼设备(如真空、粉末、电渣等)，特殊焊接设备；
　　(七)小型染整、纺丝试验专用设备；
　　(八)电生理设备。