1．从电子管到晶体管
电子管是在真空或封入气体的气密容器中设有两个以上的电极，利用电极间电子的运动，产生整流、放大或光电变换的电气特性的电子元件。电子管的外形是一个圆柱体的管子，它的直径有数毫米到几厘米。电子管上一般有两个或三个电极，电子从阴极发射，流向阳极。它是早期的电子管件。在本世纪初期，人们发明了电子管。电子管的发明，使得人们能够得到合适的无源元件（电阻、电容）以及有源元件（电子管），并将这些元件安装在底架上，用导线连在一起，制成能完成一定功能的电路。
电子管的出现，对人类社会产生了广泛的影响，开辟了电子新时代，出现了无线电、电视机，以至电子计算机。由于使用了电子管，计算机才成为“电子”计算机。没有电子管，就不会有今天的电子计算机。电子管是早期的电子计算机的主要构成部件。世界上第一台电子计算机ENIAC就使用了18,000多只电子管。我们把使用电子管的电子计算机称为第一代计算机，如ENIAC、UNIVAC I、IBM 700系列等机型。
电子管计算机出现以后，曾被认为是人类历史上的奇迹，人们为之惊叹不已。但随着计算机技术的发展，电子管计算机已经越来越不能适应要求了。
首先，由于电子管的体积重量较大，导致电子计算机的体积、重量都很大。ENIAC的运算速度为每秒5,000次，在现在看来简直无法使用，却重达30吨，体积为90立方米。这种情况严重限制了计算机的推广应用。
第二，随着电子计算机功能的增强，所需电子管数量剧增，一方面使计算机的成本上升，另一方面又使计算机的可靠性下降，还有就是使计算机的能耗增加。
因此，随着计算机科学技术的发展，迫切需要一种新的器件来代替电子管，从而达到提高计算机的功能、缩小体积、减轻重量、降低能耗，并最终降低价格的目的。经过科学家们的努力，这种新的器件终于被找到了，这就是晶体管。
早在1947年，贝尔电话实验室首先研制成功了晶体管。同电子管相比较，晶体管有很多优点，如体积小、耗电省、可靠性高。在1947至1958年期间，半导体晶体管工艺不断得到完善，从而诞生了一个崭新的工业部门──半导体工业。半导体工业的发展，使晶体管的体积更小、功能更强、制造工艺更先进。到五十年代中期，晶体管已经取代了电子管而在计算机上广泛应用。这时的计算机被称为第二代计算机，如IBM 7090、IBM 1401、RCA300、PHILCO 212等。
由于晶体管体积小、重量轻、功耗低、可靠性高、制作工艺先进，使晶体管计算机的功能增强，体积缩小，重量减轻，价格降低，可靠性提高，由此导致电子计算机开始进入经济和商业领域，发挥着巨大的作用。但是，随着计算机科学技术的发展进步，对计算机的性能等各方面提出了更高的要求，晶体管也逐渐不适应计算机科学技术的发展了。因此，出现了集成电路。
2．集成电路的历史与现状
1952年，英国雷达研究所的一位名叫达默（G.W.A. Dummer）的科学家提出了一个设想，能否按照电子线路的要求，将一个线路中所包含的晶体管和二极管以及其他必要的元件集合在一块半导体晶片上，从而构成一块具有预定功能的电路？这一设想对计算机科学技术产生了历史性的影响，这就是著名的集成化设想。在其后不久，就出现了集成电路。
1958年，美国德克萨斯仪器公司的基尔比按照上述集成化设想，使用一根半导体硅单晶制成了一个相移振荡器。制作在这根硅棒上的振荡器所包含的四个晶体管等元器件已不需要用金属导线相互连接。基尔比把达默的设想付诸实践，集成电路由此产生了。集成电路的诞生和发展，使人们能够把电路的元件一次制作在一块半导体材料上。同元件分立的电路相比较，集成电路具有体积小、重量轻、可靠性高、功耗省、成本低，以及适合于大批量生产等特点。集成电路迅速在各个领域中被广泛应用，发挥着巨大的作用。
集成电路产生以后，得到迅速发展。其发展速度之快，水平之高，令人惊目咂舌。早期的集成电路较为简单，20世纪60年代初期所能达到的集成度的水平是一个芯片上只有几十个元件，称为小规模集成。到60年代中期，集成度的水平已经提高到几百个元件，达到中规模集成。70年代，集成度水平进一步提高，在一个芯片可以集成几千个到几万个元件，达到大规模集成。进入80年代，集成电路制造工艺进一步提高，出现了在一块芯片上集成几十万个元件的集成电路，称为超大规模集成。至20世纪末，以百万为单位的超大规模集成电路已经成为个人计算机的主流芯片。集成电路的集成度、功能和可靠性虽然大幅度提高了，但其体积、重量、功耗和成本却不断下降。
3．集成电路的概念与特点
由于集成电路产生较晚，并且正处在迅速发展变化之中，所以很难给集成电路下确切的定义。不过，从上面介绍的内容来看，我们可以得出这样一个基本概况：集成电路是一种电子电路，在这个电路中，所有的元器件都集成在一块芯片上，而不再是由各个分立的元件构成。《简明不列颠百科全书》对集成电路的解释是：集成电路是利用各种不同的加工工艺，在一块连续的衬底材料上同时做出大量的晶体管、电阻和二极管等电路元件，并把它们互连而成。
1989年5月26日签订于华盛顿的《关于集成电路的知识产权条约》（简称《华盛顿条约》）对集成电路从法律上予以定义。《华盛顿条约》第2条规定：“集成电路”意指一种产品，在其最终形态或中间形态中，元件（其中至少有一个为有源元件）与部分或全部互连被集成在一片材料之中和／或之上，并且准备执行电子功能。
虽然有关集成电路的定义各不相同，但是从这些定义中可以看出，集成电路和普通电路是完全不同的。集成电路具有以下几个方面的特点：
第一，集成性是集成电路最突出的特征。集成电路中的所有元件，如晶体管、电阻、电容等，都安装在同一块晶片上，或者是叠加在一起的几块晶片上。而不是象普通电路那样，各个元件都是分立的。最初的集成电路，只包含十几个元件，而超大规模集成电路，则将上百万个元件集成在不到1平方厘米左右的晶片上。集成电路的高度集成化，使其体积缩小，成本降低，而且性能更可靠。正是由于这种特性，集成电路才能在广泛的领域内被利用。
第二，集成电路中各元件是紧密相连，不可分割的。组成集成电路的成千上万个元件，彼此互连，缺少其中任何一个，则其他元件均无法发挥预定功能。这就使集成电路成为一个整体，组成这一整体的各个部分相互依赖，各个元件不可分割，任何一个元件损坏，将导致整个电路的损坏。
第三，集成电路中的各个元件是同时制成的。集成电路，并不是把各个事先制作的元件组装在一起而形成。集成电路上的各个元件，以及元件之间的连线，都是同时制作的，事先设计在掩膜板上，通过光刻或其他工艺，加工在硅晶片上。所有元件都是一次制作而成。
第四，集成电路的元件极为细小，用肉眼几乎无法辨认。因此，集成电路的制作过程和制作工艺跟普通电路的制作过程和制作工艺相去甚远。集成电路对各个方面的条件要求极为严格。研制开发一种新的集成电路需要耗费大量的人力、物力和财力，而且还需要占用大量的时间。
1．集成电路法律保护的必要性
集成电路产生以后，在社会各个领域中得到了广泛的应用，创造了极大的经济效益。集成电路的生产引起了人们的高度重视，集成电路生产也因而成为一个利润极富而颇具吸引力的行业。
但是，集成电路的研制开发是一个复杂的过程，需要耗费大量的人力、物力与财力。据统计，开发一种含有1,200只晶体管的集成电路，需要投资50万美元以上，并且花费2至3年的时间。更何况现在的大规模集成电路和超大规模集成电路内含的的元件已经达到百万乃至千万个以上，其需要耗费的人力、物力、财力和时间要也是可想而知的。但是，仿制他人的集成电路却很容易，而且只需要很少的花费。如仿制上述内含1,200只晶体管的集成电路，只需投资约3万美元，花费3至6个月的时间即可。因此，许多企业为了节省研究开发费用和增强竞争能力，纷纷仿制他人的集成电路，甚至形成了专门的集成电路仿制行业。
集成电路是高技术的结晶，凝聚了科研人员大量创造性的脑力劳动，是智力成果的一种重要形式。对集成电路的仿制，实际上是侵犯了研制开发者的智力成果，严重侵害了他们的合法权益。受到损害的人纷纷寻求司法救济，要求保护他们的合法权益。因此，随着技术的发展，对集成电路给予法律保护的呼声也越来越高。当法律保护的缺失足以危害相关产业的发展时，立法保护的必要性也就现实地摆在人们的面前了。
2．版权法的无能
起初，人们寄希望于版权法。1979年，美国伊利诺斯州北区联邦法院及第七巡回法院在审理一个仿制集成电路芯片设计的案件时，法官认为能在版权法中找到判决的依据，但结果未能找到。这就意味着，版权法无法为集成电路提供充分有效的保护。而且人们发现，用版权法保护集成电路也是不合适的。原因如下：
第一，版权法只对作品提供保护。虽然各国及有关国际条约对作品的解释差别很大，但大都认为，作品是由语言、文字、图形或符号构成的，表现一种思想的智力成果。而集成电路的布图设计，既不是由语言文字，也不是由任何图形符号构成，而是一系列电子元件的立体布局，由一系列电子元件及连结这些元件的导线构成。不论对各国立法及有关版权条约中的作品做多么广泛的解释，均不包括集成电路的这种封装在密封材料中，无法用肉眼分辨的立体布图设计。
第二，即便将版权法中的作品扩及集成电路布图设计，版权法仍然无法提供充分有效的保护。版权法对作品提供保护的最重要方式之一，就是禁止他人未经版权人同意非法复制作品。但是许多国家版权法规定，对立体作品的非接触复制，不被版权法禁止。而对集成电路布图设计的复制，恰恰就是非接触复制。其方法是先将集成电路芯片进行化学处理，使上面的布图设计暴露出来，然后用高倍照相机拍摄下来，再按照片将布图设计重新配置在集成电路芯片上。这种对立体作品的非接触复制，在许多国家版权法中是不被禁止的。
第三，如果以版权法保护集成电路，则给集成电路的保护将过高，不利于技术的进步，影响集成电路贸易的正常进行。例如，版权法只要求作品具有独创性，即可受到保护。但是，在集成电路产业当中，有大量具有独创性但无先进性的布图设计被使用。如果仅仅要求布图设计具有独创性就可受到保护，势必影响集成电路产业的发展。此外，象版权法提供作者有生之年加50年的保护期等，对集成电路而言并无意义。
由此可见，用版权法保护集成电路的布图设计是不可能的，也是不可行的。那么，以专利法来保护集成电路又如何呢？
3．专利法的不力
如果仅就集成电路芯片本身，当然可以用专利法来保护。但集成电路保护并不是保护集成电路本身，而是其中的布图设计。对于布图设计，则很难无法以专利来保护。这是因为：
第一，专利法保护的是一种关于产品或方法或其改进的新的技术方案，而布图设计往往是产品的中间形态，不具有独立的产品功能，一般难以受到专利法保护。
第二，专利法对发明所要求的新颖性、创造性和实用性，对于布图设计来说，是很难达到的；大部分布图设计并不具备新颖性和创造性。所以，以专利法的“三性”来要求布图设计，将使大部分布图设计得不到保护。
第三，专利权的范围以权利要求书的内容为准。而作为复杂的布图设计，受保护的范围难以用文字描述的方式在权利要求书中说明。
第四，目前大多数国家对专利实行实质审查。由于集成电路的技术复杂性，对于布图设计的新颖性、创造性和实用性的审查，将极为困难，使得实质审查很难进行。
因此，按照各国专利法，只能对其中极少数具备新颖性、创造性和实用性的布图设计给予保护，对大多数布图设计将无能为力。即便授予专利，其审查及检索工作也将相当困难。
综上所述，传统的知识产权法（尤其是版权法和专利法）无法为集成电路提供充分有效的保护。但是集成电路的广泛应用又急需法律来提供保护，因此，必须突破现有知识产权法的界限，以专门立法来保护集成电路，于是产生了集成电路法。
美国是世界上最早研制成功集成电路的国家，也是集成电路产品生产和出口大国，自然也是集成电路侵权现象最严重的国家。为了保护集成电路研制开发者的合法权益，保护集成电路产业的正常发展，美国通过了专门立法以保护集成电路。
1979年，美国众议院议员爱德华提出了一个“以知识产权法保护集成电路掩膜”的议案。后来几经修改。至1984年，美国国会最终通过了《半导体芯片保护法》（Semiconductor Chip Protection Act of 1984，1984年11月8日公法98－620号第3编，以下简称《半导体芯片法》）。
在立法体例上，美国将《半导体芯片法》作为当时《美国法典》第十七编（即版权法）的最后一章，即第九章，名为“半导体芯片产品的保护”，共14条，已于1984年11月8日生效。
美国1984年的《半导体芯片法》内容详尽，包括：定义、保护的对象、所有权及其转让与许可、保护期限、掩膜作品的专有权、专有权的限制、申请登记、专有权的实施、民事诉讼、与其他法律的关系、过渡条款及国际过渡条款等。
1．保护对象
《半导体芯片法》虽然名为“半导体芯片产品的保护”，但其保护对象既非半导体芯片产品，也非半导体芯片，而一种被称为“掩膜作品”（mask work）的设计。
所谓掩膜作品，是指无论以何种方式固定或者编码的一系列相关图像（images），这些图像：（A）具有或者体现存在于半导体芯片产品的涂层上的或从半导体芯片产品的涂层上除去的预先设计的金属、绝缘材料或半导体材料的立体图案；（B）在一系列图像中，它们相互之间的关系是，每一个图像都是一种具体形式的半导体芯片产品的表面的图像。
按《半导体芯片法》规定，符合下面三个条件的掩膜作品，均受保护：
第一，该掩膜作品经它的所有人或其授权的人固定在半导体芯片产品上。
所谓的固定在半导体芯片产品上，是指一个掩膜作品在产品中的体现是充分持久或稳定的，以便在一个长于瞬间的期间内，该掩膜作品能够从产品中被了解或被复制。
第二，掩膜作品符合下列条件之一：
（1）在按照本法第902条登记之日，或在世界任何地方首次商业利用之日，以其中最早者为准，掩膜作品的所有人是：（a）美国国民或者居民；（b）参加了美国也作为缔约一方的保护掩膜作品的条约的外国国家的国民、居民或者主权当局；或者（c）无国籍人。
（2）该掩膜作品的首次商业利用是在美国进行的；
（3）该掩膜作品进入了按该法第902条第1款第2项规定发布的总统声明的范围之内。按该项规定，总统可将保护扩大到那些对美国提供保护的国家的掩膜作品。
第三，该掩膜作品具有独创性。《半导体芯片法》没有明确规定何为独创性，只规定，具有下列条件之一的掩膜作品不受保护：
（1）非独创的；
（2）由半导体工业中常用的、显而易见的、或广为人知的设计所构成，或者该种设计的变形，作为一个整体不具有独创性。
对于掩膜作品的保护不延及掩膜作品中所描述、解释、说明或者体现的思想、程序、工艺、系统、操作方法、概念、原理或者发现。
2．所有权、转让及许可和登记
《半导体芯片法》规定了掩膜作品所有人对掩膜作品的专有权（exclusive rights）。按第903条规定，这种专有权由掩膜作品的所有人享有。
美国版权法对掩膜作品“所有人”的解释非常宽泛。创作掩膜作品的人，如果他死亡或丧失行为能力，他的法定代理人；或者按903条第2款规定由创作人或其法定代理人将其全部权利转让的受让方；如果掩膜作品是在雇佣范围内创作的，创作人为之工作的雇主；或者雇主按第903条第2款将其全部权利转让的受让人。
由此可见，掩膜作品的所有人实际包括了与掩膜作品权利有关的所有的人：创作人或其法定代理人、创作人的雇主、他们的权利继受人，甚至在特殊情况下包括独占许可证的被许可人。
掩膜作品的专有权，被视为其所有人的一种个人财产或动产。按903条第2款规定，所有人可以通过由所有人或其授权的代理人签署的书面文件向他人转让其全部权利或者向他人发放其全部或部分权利的使用许可。这些权利也可以通过执行法律而转让或许可，可以通过遗嘱而遗赠，也可以作为个人财产根据无遗嘱继承所适用的法律而转移。
应当注意的是，除了许可他人使用外，其他的转让或转移是指权利的全部，而不能是一部分。对于全部权利的许可，实际上就是在美国法律管辖范围内的独占许可。
有关掩膜作品的转让、许可等的文件，均可以向版权局登记。版权局长在收到文件和费用后，应将文件进行记录，并将文件和记录证一起送还要求记录的人。任何转让或许可一经记录，即认为所有的人都了解记录文件中关于转让或许可的事实。
3．保护期限
《半导体芯片法》规定，对掩膜作品的保护期限，从保护产生开始，为期10年，到第10年的年终。
对于保护开始的日期，《半导体芯片法》规定了两个标准，一是该掩膜作品按照该法第908条规定办理登记之日，二是该掩膜作品在世界任何地方首次进行商业利用之日。这两个日期中，哪一个先发生，以哪一个为准。
关于保护开始的时间，如果以登记日为准，这很容易确定；如果以首次商业利用之日为准，就涉及到一个重要的问题，就是确定何为商业利用，然后才能确定首次商业利用之日。
所谓商业利用，按《半导体芯片法》的规定，是指出于商业目的，向公众分销含有掩膜作品的半导体芯片产品。对于出售或转让半导体芯片产品的要约，只有当要约以书面形式做成，并发生在掩膜作品固定在半导体芯片产品之后，才构成商业利用。而分销，则指出售、出租、委托于他人或其他方式的转让，或者发出出售、出租、委托于他人或其他方式转让的要约。
4．专有权
《半导体芯片法》把掩膜作品所有人的权利规定为一种专有权。按第904条规定，受保护的掩膜作品所有人对实施或授权实施下列行为享有专有权：
（A）利用光学、电子学或者其他任何方式复制掩膜作品；
（B）进口或者分销含有该掩膜作品的半导体芯片产品；
（C）促使或有意导致他人进行上述行为。
值得注意的问题是，这里所用的专有权，从有关的规定来看，并不是真正的“专有”，与专利法中所指的专有权有很大不同，倒与版权的权利性质相类似。另外，这里所用的复制一词，英文为 reproduce，而不是 copy，两者含义有所不同。
5．对专有权的限制
《半导体芯片法》对专有权的限制有三个方面。
（1）反向工程
单纯为了教学、分析或鉴定结合在掩膜作品中的技术概念、或者掩膜作品中使用的电路、逻辑流程、元件组成的目的而复制掩膜作品的，不视为侵权。把上述分析、鉴定的结果应用到一个新的具有独创性的掩膜作品中进行制造、分销，也不视为侵权。
（2）首次出售
对掩膜作品所有人制造或经其许可的人制造的某一特定的半导体芯片产品，该产品的所有人可以不经掩膜作品所有人授权而进口、分销或以其他方式处置或使用该特定产品，不视为侵权。但该产品所有人不得进行复制。
（3）善意买主
善意买主在知道该半导体芯片产品中所包含的掩膜作品享受保护之前进口或销售半导体芯片侵权产品的，不承担侵权责任。在了解该半导体芯片产品中的掩膜作品受保护之后，对其进口或销售的半导体芯片侵权产品，只负就每件产品缴纳合理许可使用费的责任。这项规定适用于直接或间接向善意买购买半导体芯片侵权产品的任何人。但上述规定仅适用于善意买主在了解半导体芯片产品中的掩膜作品享受保护之前购买的半导体芯片侵权产品。
6．保护请求的登记
美国版权法对掩膜作品的保护不是自动给予的。只有在版权登记处进行登记的掩膜作品才能受到保护。
《半导体芯片法》第908条规定，掩膜作品所有人可以向版权登记处申请登记。在申请登记之前，给予两年的临时保护。如果首次商业利用之日起两年内未申请登记，则此种保护将终止。
掩膜作品所有人按照版权登记处规定的格式填写申请书，支付有关费用，并提交有关掩膜作品的详细资料。
版权登记处在审查后认为符合该法规定的，予以登记，并发给申请人登记证书。在侵权诉讼中，登记证书作为初步证据，证明证书中所述事实，以及申请人符合该法及有关法规的要求。
7．掩膜作品标记
受保护的掩膜作品的所有人可以在其掩膜作品、掩膜和应用掩膜作品的半导体芯片产品上作出标记，以提醒他人对上述保护给以适当注意。掩膜作品标记不构成掩膜作品受保护的条件，但可以构成知道保护存在的初步证据，尤其是对抗自称为善意侵权的人。
掩膜作品标记由两部分构成，一是代表掩膜作品的符号（用圆圈圈住的字母M或大写字母M），二是掩膜作品所有人的姓名，或其能够供他人辨认的或一般为人所知的姓名的缩写。
8．专有权的行使及侵权诉讼
任何人以商业行为或者影响商业的行为侵犯了掩膜作品所有人的专有权，均应承担侵权责任。
在登记证书颁发以后，受保护掩膜作品的所有人，或者独占许可的被许可人，均有权对于发生在保护产生以后的侵权行为提起民事诉讼。
掩膜作品所有人有权要求禁止侵权产品的进口，并可要求没收进口侵权产品并加以销毁，还可要求法院下达临时限制令（temporary restraining orders）、中间禁令（preliminary injunctions）或永久禁令（permanent injunctions），并责令侵权人赔偿被侵权人的实际损失。在审理期间，法院有权扣押侵权半导体芯片产品。此外，在最终判决下达之前的任何时候，被侵权人可以要求得到不超过25万美元的法定赔偿来代替实际损失赔偿。
9．其他规定
除上述内容以外，《半导体芯片法》还包括其他有关规定。例如，该法与其他法律的关系、过渡条款以及国际过渡条款等。
根据上面所介绍的内容，我们可以看出，1984年《半导体芯片法》具有以下特点：
第一，该法虽然名为《半导体芯片法》，但其保护对象并非半导体芯片或者集成电路，而是固定在半导体芯片产品上的掩膜作品。
第二，掩膜作品取得保护的条件既不同于专利法对发明创造所要求的条件，也不同版权法对作品所要求的条件，非常独特。就《半导体芯片法》具体规定而言，一是独创性。这是版权法对作品的要求；二是非显而易见性。这与专利法所要求的先进性相同，只是在先进性程度上稍低一些。
第三，掩膜作品的保护不是依据“创作的完成”而自动取得的，需以登记或商业利用为前提。更重要的是，以首次商业利用作为主张保护的起始点的，仍然需要在首次商业利用之日起两年内申请登记，否则已经取得的保护将终止。另外，登记机构或版权管理机构还要对申请人的申请进行类似于专利审查的审查，通过审查者方能获得登记。这既与美国的版权登记不同，也与专利申请不同。
第四，虽然该法被编入《美国法典》第17编，即版权法，作为其第九章，但实际上除了有关登记机构（版权登记处）的一些规定（而且第708条还不适用）外，这一章与版权法没有任何联系。这一点在第912条中也作了明确规定。即，本法的规定，并不影响按照专利法或版权法而享有的权利和救济。这就意味着，美国把半导体芯片产品中的掩膜作品的保护排除在了版权法和专利法体系之外，另成一个独立的体系。
美国《半导体芯片法》是世界上第一个有关集成电路保护的专门立法，对以后各国立法和有关国际条约、国际协议有着深刻的影响。
日本是生产集成电路及含集成电路的产品的大国之一，其产品的出口量已经超过美国而居世界首位。如何有效地保护集成电路的布图设计不受非法复制，也同样摆在日本面前。另外，由于美国《半导体芯片法》规定，对于外国人所有的掩膜作品，如果不是在美国首次进行商业利用，要在美国取得保护必须满足一个先决条件，即该外国或者是美国参加的有关条约的缔约方，或者是对美国的掩膜作品提供保护的国家。而当时没有任何保护掩膜作品的多边或双边国际条约，要获得保护，只有对美国的掩膜作品提供保护。这也使得日本急于制订自己的集成电路保护立法，以适应国内国外的需要。
1985年5月31日，日本通过了它的集成电路法─—《半导体集成电路的电路布局法》（以下简称《电路布局法》）。
日本《电路布局法》共六章五十六条，并一个附则。由于日本是世界上第二个制定集成电路保护之专门立法的国家，当时，除了美国的《半导体芯片法》之外，并无任何国家的相关立法可供借鉴，因而其立法深受美国法的影响，在主要内容上与美国的《半导体芯片法》大致相似。下面简单介绍一下日本的《电路布局法》的有关规定：
1．保护对象
日本《电路布局法》规定的保护对象跟美国一样，不是集成电路，而是集成电路的电路布局。所谓电路布局，与美国的掩膜作品的含义基本相同。与美国法不同的是，日本《电路布局法》没有对电路布局进行详细定义，只是简单规定，“电路布局”是指在半导体集成电路中的电路元件和连接这些元件的连线的布局。
2．电路布局使用权的登记
按日本法的规定，电路布局的创作人或其继承人可以基于电路布局获得电路布局使用权的登记。登记的具体内容与美国的规定大致相同。不同的是，负责登记的机构不是作为当时的版权主管机关的文部省（现为文部科学省），而是主管工业产权的通产省（现为经济产业省）。
3．电路布局使用权
日本《电路布局法》对电路布局有关的权利规定很繁杂，有电路布局使用权、专用权、普通使用权和抵押权等。这些权利中，真正属于布图设计权的只有电路布局使用权，至于其他的权利，都不是我们所说的布图设计权。日本《电路布局法》中的专用权，指的是独占许可的被许可人的权利；而普通使用权，则是指普通许可之被许可人的权利；抵押权则根本与布图设计权无关，只是一种担保物权。
日本法关于电路布局使用权的有关规定，与美国法大体相同，如不实行自动保护、保护期限、保护范围等。与美国法不同的主要有两个方面：
第一，电路布局使用权产生的依据。日本规定，只有登记才能产生电路布局使用权，在登记之前，不论是否进行商业利用，均不产生任何权利。这在该法其他条文中也有规定，如第27条关于补偿费的规定。这与美国法规定的登记和使用都可产生权利是显然不同的。
第二，日本对其他有关人的权利也进行了规定，就是专用权、普通使用权以及抵押权的规定。这些权利在美国法中没有体现。
4．侵权
日本《电路布局法》并没有具体规定哪些是侵权行为，只规定了要求停止侵权的权利、视为侵权的行为、对诚实者的特例（即善意买主）、损失总额的推断、文件的提出等。大部分内容与美国法规定相同，只有一点不同，即关于视为侵权的行为。
《电路布局法》第23条规定，为商业目的而生产、转让、租赁、出于转让或租赁目的之展览、或者进口专门用于仿制登记的电路布局的物品，应视为对电路布局使用权或专用权的侵犯。这种把专门用于仿制登记的电路布局的物品的生产、转让、进口等也视作侵权的规定，不仅在在美国法中是没有的，而且是其他国家中也未有相同或类似规定。
5．补偿
关于补偿的规定，是针对在电路设计登记之前对仿制的电路布局的使用的。在电路布局登记生效以后，电路布局的使用权人有权要求使用仿制电路布局的人支付补偿金，其总额相当于在通常情况下使用该电路布局应该支付的金额。对于未准登记的，则无权要求补偿。这项规定与美国法第910条第（二）款第（1）项规定不同。美国法认为，在登记以前发生的此类行为同样是侵权行为，只要所有人领取了登记证书，或者申请被拒绝，但已按联邦民事诉讼法实施细则的规定将诉讼通知和一份诉状副本送达版权登记处，权利人即可提起民事诉讼。
6．罚则
日本法对于侵权人的责任是相当严格的，除了赔偿权利人实际损失之外，侵权人还须承担刑事责任。按该第51条规定，侵犯电路布局使用权或者专用权者，应被处以三年以下有期徒刑或100万日元以下的罚款。对于靠欺诈而获得登记者或有违反第8条第１款者，应被处以一年以下有期徒刑或30万日元以下罚款。这些规定，加强了对布图设计的保护。
从总体上来说，日本法是以美国法为蓝本的，许多条款引用了美国的规定。但与美国法相比，日本法要更具体、更详细一点。
在美日相继通过专门立法保护集成电路布图设计以后，一方面出于保护布图设计的需要，另一方面也迫于美国的压力，欧共体于1986年12月16日通过了《关于半导体产品布图设计法律保护的理事会指令》（87/54/EEC）（以下简称共同体指令）。该指令共4章12条，对于共同体各成员国的集成电路布图设计立法有着重大影响。现在介绍该指令的主要如下。
1．保护对象
共同体指令第2条规定，各成员国应通过采取立法手段保护半导体产的布图设计。共同体指令没有采用美国的“Semiconductor Chip Product”和“Mask Work”两个术语，而是用另外两个术语：Semiconductor product和Topography。但其含义与美国的Semiconductor chip product和mask work相同。
2．保护方式和条件
共同体指令并没有意图成为统一的布图设计法，而只是对各国制定各自的布图设计法规定一些基本的原则和标准。所以指令并没有规定各成员国以何种法律保护布图设计，只是简单规定，成员国应按指令的要求采取法律措施保护布图设计专有权。至于是通过专门立法，还是通过专利法、版权法或者工业设计法，由各成员国自由确定。
对于保护的条件，共同体规定了独创性的要求。指令规定，各成员国可以规定只有当布图设计是创作人自己的智力努力的成果并且在半导体工业中并非显而易见时才受保护。
3．权利的归属
共同体指令规定，保护的权利由半导体产品布图设计创作人享有。雇佣创作和委托创作，除合同有相反规定，则由雇主或委托人享有。对于权利人的主体资格，指令同美国法一样作了限制，只是把范围改为共同体（现应为欧盟）成员国。
另外，对于创作人、雇主或委托人以及他们的权利继受人均不符合有关规定时，如果在共同体成员国内首次商业利用一曾未在世界其他地方商业利用过的布图设计的人已经得到有权处置布图设计的人在共同体内独占商业利用的授权，其同样可主张获得保护。
4．登记
共同体指令没有规定是否以登记作为保护的前提，这一问题留待各国法律解决。
指令还规定，要求登记的国家应当对那些根据指令有权得到保护的人提供法律救济，如果他能够证明另一个人未经其授权而申请或获得了布图设计登记。
5．保护的范围
指令规定，专有权包括许可或禁止下列行为的权利：
（1）复制受保护的布图设计；
（2）商业利用或为此目的进口布图设计或使用布图设计而制造的半导体产品。
对于权利的限制，指令明确了私人为了非商业目的而复制布图设计可以不被禁止。其他限制，如反向工程、权利穷竭以及善意买主等，与美国法规定没有差别。
对布图设计的保护，不及于除了布图设计本身之外的任何概念、过程、系统、技术或者结合在布图设计中的已编码的信息。
6．布图设计权的产生
指令对布图设计产生的时间作了具体规定。分为三种情况：
第一，以登记为产生的条件的，在下列较早时间产生：（1）当布图设计在世界任何地方首次商业利用之日，（2）当登记申请按规定的方式提出之日；
第二，当布图设计在世界任何地方首次商业利用的时候；或者
第三，布图设计首次固定或编码的时候。
布图设计权的有效期为10年。如果在首次固定或编码起15年内没有进行商业利用，则不再受保护，也不再产生新的权利。除非在上述期间内在以登记为权利产生或权利续展的条件的成员国内申请登记。
7．保护标记
如果成员国要求使用受保护布图设计制造的半导体产品可以载有标记，该标记应是如下几种：T（大写字母）、“T”、［T］、Ｔ*或者〇T 。
8．其他法律的继续实施
指令不影响有关专利权和实用新型权的法律规定，也不影响各国版权法限制通过将布图设计草图或其他艺术作品复制成二维形式的复制。
按指令规定，各成员国应在1987年11月7日以前实施符合本指令的必要的法律、条例或行政规定。
按共同体委员会指令的要求，共同体成员国纷纷颁布专门法律来保护集成电路。德国、英国、法国、荷兰、丹麦、奥地利、西班牙等先后颁布了集成电路保护的专门立法。
综观各国的集成电路立法，与传统的知识产权法，尤其是专利法和版权法相比较，集成电路法有如下特点：
集成电路法既不属于专利法体系，也不属于版权法体系，而是知识产权法中的一个独立体系。该体系被一些学者称为“工业版权法”。
首先，从目前存在的集成电路法来看，均被排除在版权法的体系之外，但各国也没有将集成电路法纳入到专利法的体系中。
其次，从集成电路法所保护的集成电路布图设计来看，它既不属于《巴黎公约》第一条规定的工业产权的范围，又不是作品（至今为止没有一个国家将布图设计看作作品），而是一种新的智力成果。
再次，从对集成电路布图设计的保护看，既有专利法的保护条件和方式，也有版权法的保护条件和方式，是专利法和版权法的交融。从总体上看，对集成电路布图设计的保护，实质上主要是以版权法的保护条件和程序（当然也有一些是属于专利法的条件和程序），给集成电路布图设计以近乎专利法的保护。
集成电路法的许多规定来自版权法和专利法，例如，对受保护的布图设计要求具备独创性和非显而易见性，前者是版权法对作品的要求，后者是专利法对发明的要求。从其他内容来看，集成电路法集合了专利法和版权法许多规定。
在美国于1984年订立专门立法保护集成电路以来，日本、欧盟、加拿大等工业发达国家或集团也相继采取了立法步骤保护集成电路。受美国立法的影响，各国均未将集成电路立法纳入现有的版权或工业产权范围，因此，现有版权或工业产权国际条约均无法适用于集成电路保护。
随着集成电路产品国际贸易的扩大和科学技术水平的提高，一国受保护的集成电路布图设计往往在他国被非法复制或仿制，从而影响集成电路产品国际贸易的正常进行。因此，各国纷纷寻求建立集成电路布图设计的国际保护体制，以便为集成电路布图设计提供更充分有效的保护。
早在1983年，世界知识产权组织就开始探讨集成电路保护问题。为了在国际范围内对集成电路布图设计进行保护，WIPO发起了缔结一项有关集成电路布图设计保护的国际条约的活动。经过努力，WIPO提出了《关于集成电路知识产权保护条约草案》。根据世界知识产权组织大会和巴黎联盟大会的决定，1989年5月8日至26日，在华盛顿召开了关于缔结一项集成电路的知识产权保护条约的外交会议，会议通过了《关于集成电路的知识产权条约》（Treaty on Intellectual Property in Respect of Integrated Circuits）（以下简称《华盛顿条约》）。
《华盛顿条约》共20条，包括行政条款和实质条款。按条约规定，成立联盟，各缔约国均应通过适当的法律措施对集成电路的布图设计提供知识产权保护。条约的主要内容包括：保护的对象、保护的方式、国民待遇、保护的范围、保护的期限、商业利用、登记以及披露等实体规定，以及大会、国际局、条约的修改、保留、争议解决、缔约国、生效等一些行政性规定。《华盛顿条约》的实体内容受美国及共同体指令的影响颇深。
除了世界知识产权组织的努力以外，还有其他一些国际组织，如联合国教科文组织、关税与贸易总协定等也在进行努力，以促进集成电路国际保护体系的建立和发展。其中为人所注意的是关税与贸易总协定的活动。
关税与贸易总协定乌拉圭回合谈判决定将包括集成电路保护在内的知识产权问题进行谈判，并最终达成了《与贸易有关的知识产权协议》（TRIPS协议）。TRIPS协议第二部分第六节对集成电路布图设计的保护问题进行了规定。
根据协议，各缔约方同意按照《集成电路知识产权条约》第2条至第7条（第6条第3款除外）、第12条和第16条第3款规定进行保护。除了按照《集成电路知识产权条约》的有关规定保护集成电路布图设计之外，协议还要求成员国在保护的范围、无需取得权利人许可的行为等方面，遵守协议的专门规定。
本节概括性地介绍了美、日、欧三方的集成电路保护立法。可以看出，三方的相关立法之间并无实质性的差别。就此而言，不同国家在集成电路保护方面的立法可能是现有知识产权保护立法中分歧最小的一个领域。中国于2001年10月1日开始实施的《集成电路布图设计保护条例》也基本上全盘照搬了美国的《半导体芯片法》；而TRIPS协议的实施又使以美国法为蓝本的《华盛顿条约》获得了广泛的推行。因此，对于学员来说，认真学习下一节的内容，熟悉《华盛顿条约》的原则与规则，就可以清晰地把握集成电路保护法的基本脉络了。
本节练习（判断题）
1．欧洲共同体各国通过集成电路保护立法的时间是1986年。（错，欧洲共同体理事会于1986年通过了保护集成电路的理事会指令，要求各成员国最迟于1987年11月7日实施该指令。）
2．根据《半导体芯片法》的规定，美国为掩膜作品提供保护的期限为10年，从登记之日起算。（错，美国法规定的保护期起算日有两个，即首次商业利用与登记，以先发生者为准。）
3．根据欧洲共同体指令的规定，自首次被固定时起算，集成电路布图设计享受法律保护的期限最长不超过10年。（错，共同体指令规定，布图设计权的保护期为10年，但在以登记为保护前提的国家，布图设计被首次固定后15年内仍有可能申请登记，从而使其实际的受保护期最长可达25年。）
4．集成电路保护法中的“复制”是指将布图设计重复实现在某种材料的芯片上，并且能够发挥预期的电子功能。（对）
5．未经许可而进口、销售含有受保护的布图设计的集成电路，以及装有该种集成电路的电子产品的，同样构成对布图设计权的侵犯。（对）
自美国于1984年通过《半导体芯片法》以来，主要工业发达国家已相继建立起各自的集成电路保护专门立法；许多技术比较先进的发展中国家也建立起了自己的集成电路保护制度。从目前各国已建立的集成电路保护制度的方式来看，均采用了授予集成电路布图设计创作者以某种权利的方式。因此，集成电路布图设计已成为知识产权的重要内容。但是，在《华盛顿条约》缔结之前已经存在的知识产权国际条约，却无法适用于集成电路布图设计的国际保护。
美国的《半导体芯片法》被编入美国法典第17编，作为该编的第九章。美国法典第17编的标题为“版权”，但《半导体芯片法》却被排除在版权体系之外。受美国立法模式的影响，其他国家均将集成电路布图设计保护的立法独立于版权法，使现有版权国际条约，如《伯尔尼公约》、《世界版权公约》等，无法适用于集成电路布图设计的保护。而且，由于各国对集成电路布图设计的保护与专利保护、实用新型保护或工业品外观设计保护相距太远，又不可能适用有关工业产权保护的国际条约，如《巴黎公约》等。这样，从集成电路布图设计保护法产生时起，便以一种完全独立于既存的知识产权国际保护体系的形象出现在人们面前。
由于集成电路布图设计保护制度没有被纳入任何已有的知识产权国际保护体系之中，对集成电路布图设计的保护只有依靠各国国内立法了。而从美国《半导体芯片法》开始，各国的国内立法就对外国人的集成电路布图设计的保护问题采取了极为保守的做法。
根据美国《半导体芯片保护法》第902条规定，只有美国国民或居民所有的掩膜作品和首次商业利用是在美国进行的掩膜作品才能受到保护，至于那些由外国人所有的、在美国之外的其他国家进行首次商业利用的掩膜作品，只有在下列三种情况下才受保护：
第一，其所属国或居住国跟美国都参加了某个保护掩膜作品的国际条约；
第二，居住在任何地区的无国籍人；
第三，属于美国总统公告范畴的人。如果某一国家对属于美国国民或居民的掩膜作品提供了与其国民或居民所有的或首次在该国进行商业利用的掩膜作品基本相同的保护或者与美国《半导体芯片保护法》规定基本相同的保护，美国总统可以在任何时候宣布对该国国民或居民所有的或首次在其境内进行商业利用的掩膜作品提供保护。
其他国家受美国的影响，也大都采取了类似的规定。在这种情况下，集成电路布图设计的国际保护就存在着严重的障碍。如果没有适当的机制，集成电路布图设计的国际保护就很难实现。
随着计算机技术的发展及与计算机有关的产品和技术在国际贸易中的比重大幅度提高，各国纷纷寻求建立集成电路布图设计的国际保护体制，以便为集成电路布图设计提供更充分有效的保护，从而促进与集成电路产品及技术有关的贸易的正常发展。布图设计国际保护被提到议事日程上来了。
由于各国集成电路法均独立于版权法，现有的版权国际公约将无法在集成电路国际保护中起任何作用，国际社会不得不在现有的知识产权国际公约之外另行缔结专门保护集成电路的国际条约。这一任务，首先责无旁贷地落在了负责全球知识产权保护工作的联合国专门机构─—世界知识产权组织（WIPO）身上。
早在1983年，世界知识产权组织就开始探讨集成电路保护问题。为了在国际范围内对集成电路布图设计进行保护，WIPO成立了一个专家委员会，开始拟订一份保护集成电路布图设计的国际条约。1986年初，这个专家委员会提出了一个草案。该草案经过多次讨论，成为后来的《关于集成电路的知识产权条约》的基础。
根据世界知识产权组织大会和巴黎联盟大会的决定，1989年5月8日至26日，在华盛顿召开了关于缔结一项集成电路的知识产权保护条约的外交会议，会议通过了《关于集成电路的知识产权条约》（Treaty on Intellectual Property in Respect of Integrated Circuits）（以下简称《华盛顿条约》）。
《华盛顿条约》共20条，包括行政条款和实质条款。按条约规定，成立联盟，各缔约国均应通过适当的法律措施对集成电路的布图设计提供知识产权保护。条约的主要内容包括：保护的对象、保护的方式、国民待遇、保护的范围、保护的期限、商业利用、登记以及披露等实体规定，以及大会、国际局、条约的修改、保留、争议解决、缔约国、生效等一些行政性规定。《华盛顿条约》的实体内容受美国及共同体指令的影响颇深。
《华盛顿条约》向世界知识产权组织成员国和联合国会员国开放，同时允许政府间组织参加。按条约第16条规定，条约将于第五个批准国或政府间组织向世界知识产权组织总干事交存批准书以后3个月对五个批准国或政府间组织生效。目前该条约尚未生效。
《华盛顿条约》第2条首先对条约中使用的10个关键概念进行了定义，其中与集成电路布图设计保护的实体内容有关的主要是4个：集成电路、布图设计、权利持有人和受保护的布图设计。
1．集成电路
集成电路是指一种产品，在其最终形态或中间形态中，元件（其中至少有一个为有源元件）与部分或全部连线被集成在一片材料之中和/或之上，并且准备执行电子功能。
这个定义与美国《半导体芯片保护法》及欧盟指令对半导体芯片产品的定义本质上是相同的。
2．布图设计
布图设计，无论如何表述，是指一个集成电路的元件（其中至少一个为有源元件）与部分或全部连线的三维配置，或者为制造集成电路而准备的此种三维配置。
由此可看出，布图设计是一种元件和连线的三维配置。这种配置通过元件与连线在集成电路中的分布与连接体现出来。
3．权利持有人
权利持有人是指，根据所适用的法律，作为第6条所规定的保护的受益人的自然人或法人。
4．受保护的布图设计
受保护的布图设计是指符合本条约规定的保护条件的布图设计。
国民待遇是现有的版权国际条约和工业产权国际公约中大都规定的一项基本原则，同时也是是知识产权国际保护制度的核心内容。《华盛顿条约》对集成电路布图设计国际保护中的国民待遇也做出了具体规定。
1．国民待遇的一般要求
根据条约第5条规定，在集成电路布图设计知识产权保护方面，每一缔约方应在其领域内对下列人给予与其本国国民相同的待遇：
（1）作为任何其他缔约方的国民或居民的自然人；和
（B）在任何其他缔约方有真实有效的创作布图设计或者制造集成电路的场所的法人或者自然人。
2．国民待遇的例外
根据条约第5条第2款的规定，对于涉及代理人的指定和送达地址的确定方面的义务或适用于外国人的法庭程序的特别规则方面的义务，任何缔约方得不适用国民待遇。
3．“国民”在政府间组织中的含义
由于条约允许政府间的国际组织作为缔约方参加，而政府间国际组织既无领土又无国民，需要对政府间组织的“国民”进行定义。据条约的规定，如果缔约一方为政府间组织，则本条第1款中的国民是指该组织的任何成员国的国民。
4．实施国民待遇的限制
根据条约的规定，缔约方在实施国民待遇时有个限制条件，即，实施国民待遇应符合条约第3条第1款a项规定的义务。该项义务的内容是要求缔约方采取法律措施对集成电路布图设计进行保护，制止条约第6条规定的非法行为。
这项规定表明，缔约方在实施国民待遇时应符合上述义务，不得借口实施国民待遇而给予受本公约保护的人低于本条约规定的保护。这与其他有关知识产权国际条约所规定的国民待遇的限制是相同的。
从上述内容可以看出，《华盛顿条约》对国民待遇的规定更类似于《巴黎公约》规定的国民待遇，而与《伯尔尼公约》规定的国民待遇有很大差别。《华盛顿条约》的国民待遇只是依国民或居民的身份而确定，与《巴黎公约》基本相同。而《伯尔尼公约》除了以国民或居民的身份之外，还有非常重要的一点就是作品首次出版的地点。如果首次出版发生在某一缔约国，则应享受公约规定的国民待遇。但对于同样存在着首次商业利用问题的集成电路布图设计，《华盛顿条约》却没有作出这样的规定。不过，许多国家对于那些在首次商业利用发生在本国的集成电路布图设计，通常是给予保护的。
条约虽然名为“集成电路”知识产权条约，但受保护的主题并不是集成电路，而是集成电路的布图设计，这与许多国家的立法情况是相同的。条约第3条对受保护的主题进行了规定。
1．对布图设计的义务
条约第3条第1款规定，任何缔约方有义务在其领域内按照本条约的规定对集成电路布图设计提供知识产权保护。条约特别要求，缔约方尤其要保证采取必要的措施制止条约第6条所规定的非法行为，并在发生此等行为时给予适当的法律救济。
根据条约规定，不论集成电路是否被结合在一个物品中，权利持有人对集成电路的权利均应受到缔约方的保护。不过，如果缔约方的法律将对集成电路布图设计的保护限制于半导体集成电路的布图设计，则该缔约方在其法律含有此项限制时可适用此项限制，只对半导体集成电路的布图设计提供保护。
2．独创性要求
根据条约的要求，各缔约方只承担对具有独创性的集成电路布图设计进行保护的义务。对于那些不具备独创性的布图设计，任何缔约方没有义务给予保护。
《华盛顿条约》对布图设计的“独创性”的要求不同于版权法上通常要求的“独创性”。根据条约规定，独创性包括两层含义：
（1）布图设计是其创作者自己的智力努力的成果。这实际上就是版权法上通常要求的“独创性”。
（2）布图设计在创作时在布图设计者和集成电路制作者中间并不是显而易见的。这就是布图设计的“非显而易见性”。
另外，根据条约规定，对于那些由显而易见的元件和连线的结合构成的布图设计，只有当它作为一个整体符合上述条件时，才受保护。
条约对布图设计受保护的实质要求在现有的知识产权领域中是比较独特的。版权法对作品受保护的实质要求是作品具有“独创性”，即作品是作者自己智力努力的成果；专利法对发明受保护的实质要求是发明具备“新颖性”、“创造性”与“工业实用性”。条约所要求的布图设计的“独创性”，既不完全是版权法对作品受保护的要求，也不完全是专利法对受保护的发明的要求，而两者的有机结合。具体来说，条约所要求的布图设计的独创性是指：
第一，该布图设计必须是其创作人自己智力努力的结果，而不是对他人布图设计的简单复制或简单修改。虽然在创作布图设计过程中必然会参考或借鉴他人的布图设计，但在整体上该布图设计必须体现了创作者自己的智力努力。
第二，该布图设计必须具备一定的先进性。该布图设计在创作完成时在创作人当中以及在集成电路行业当中，具有一定的先进性，不能是常用的、显而易见的或者为人所熟知的。但条约并不要求受保护的布图设计具有非常高的先进性或“创造性”，只要求不显而易见即可。这实际上是降低了标准的“创造性”。
条约并未对缔约方以何种法律形式保护布图设计作出具体规定。根据条约第4条的规定，每一缔约方可自行确定实施条约义务的法律形式，既可以通过有关布图设计的专门法律来实施，也可以通过关于版权、专利、实用新型、工业品外观设计、不正当竞争等的法律或这些法律的结合来实施。
结合条约第3条的规定，我们可以看出，条约只要求缔约方通过适当的法律形式给予受条约保护的集成电路布图设计以知识产权保护，至于是否授予实体的权利，以及授予何种权利，条约并没作出统一的要求。不过，据条约第3条第1款的规定，缔约方在给予集成电路布图设计以知识产权保护时，应当对那些因条约第6条所规定的行为而受侵害的人给予适当的法律救济。在实践中，由于《华盛顿条约》是在许多国家订立了专门的布图设计保护法之后才缔结的，绝大多数国家还是通过有关布图设计的专门法来保护实施条约义务的。
1．需经权利持有人许可的行为
根据条约第6条第1款的规定，任何缔约方应将未经权利持有人许可而实施的下列行为视为非法：
（1）对受保护的布图设计的全部或其中的任何部分实施的任何复制行为，不论这种复制是以结合在集成电路的方式或其他方式进行，除非布图设计中被复制的部分不符合条约第3条第2款所规定的独创性要求。
（2）为商业目的而进口、销售或以其他方式分销受保护的布图设计或结合有受保护的布图设计的集成电路。
另外，根据条约规定，各缔约方可自行将上述行为之外的其他未经权利持有人许可而实施的行为视为非法。
从上述规定看出，条约为权利持有人提供的保护包含了复制、进口、销售以及其他商业目的的分销。这表明，布图设计权利持有人在任何缔约方内至少应享有复制权、进口权和销售权；如果某缔约方没有采用确认布图设计权利持有人的权利的方式来保护布图设计，如通过反不正当竞争法来保护时，该缔约方至少将采取措施制止上述行为。
需要说明的是，条约所称的“复制”，不是版权法上通常使用的“copy”，而是“reproduction”。从布图设计的“reproduction”的过程来看，与其说是“复制”，倒不如说是“实施”或“制造”。在“复制”布图设计的过程中，必须将被复制的布图设计结合到特定的集成电路中，实际上就是利用被“复制”的布图设计来制造集成电路。这是一个兼具版权法上的“复制”与专利法上的“实施”两种性质的行为，而且，仅有“复制”而无“实施”，或仅有“实施”而无“复制”，均不能实现对布图设计的“复制”。
2．不需要权利持有人许可的行为
根据条约第6条第2款的规定，对布图设计的保护不及于下述三种情况：
（1）未经权利持有人许可，出于私人目的而进行的复制，或纯粹为了评估、分析、研究或教学而进行的复制，任何缔约方不得视为非法。
（2）如果上述第三人在评估或分析的基础上创作出符合条约规定的独创性要求的新的布图设计，该第三人可以把新的布图设计结合在集成电路中，也可以实施其他任何行为，而不被视为侵权；
（3）权利持有人不得对第三人独立创作的具有独创性的相同布图设计行使其权利。
在上述例外中，特别需要说明的是为了评估、分析或研究的例外。为了对受保护的布图设计进行评估、分析或研究而复制受保护的布图设计，以及将评估、分析或研究的结果用于新的布图设计，就是集成电路行业中普遍采用的“反向工程”。所谓“反向工程”，是指通过某种逆向的拆解行为对他人的布图设计进行分析、评价，从而搞清楚其设计原理与方法，以及其中可能包含的任何技术要素，然后根据这种分析评价的结果创作出新的布图设计。翻开集成电路布图设计的发展历史，我们可以看出，反向工程在创作布图设计时是经常采用的，是促进布图设计不断进步的重要手段。许多先进的布图设计就是在分析他人已有的布图设计的基础之上创作出来的。如果对此种行为予以制止，必然会阻碍布图设计技术的进步，影响集成电路产业的发展。因此，美国在其《半导体芯片法》中对因实施反向工程而复制他人受保护的布图设计给予豁免，不视为侵权行为。日本、欧共体等随后也将反向工程作为布图设计保护的一项例外。《华盛顿条约》吸收了各国立法的这一做法，将实施反向工程作为保护的例外。
3．不需要权利持有人同意的措施
所谓不需要权利持有人同意的措施，实质上就是强制许可。强制许可是知识产权法上的一项重要制度，是对知识产权的一种限制。条约第6条第3款对强制许可问题作出了详细的规定。
根据条约的规定，任何缔约方得在其立法中规定其行政或司法当局授予非独占许可的可能性，以准许第三人实施条约第6条第1款规定的行为。不过，条约对于颁发强制许可规定了严格的条件。这些条件主要包括：
（1）强制许可只能在特殊情况下颁发。根据条约规定，只有当第三人以正常的商业条件向权利持有人寻求获得许可而未获成功之后才可颁发强制许可。另外，缔约方为了保持自由竞争以防止权利持有人滥用权利，在经过适当程序之后亦可颁发强制许可。
（2）强制许可应是非独占的。强制许可只能是非独占许可；权利持有人还可以许可他人实施与受保护的布图设计有关的各种行为，而且强制许可的被许可人不得将许可转让或发放分许可。
（3）强制许可仅限于授予强制许可的国家内利用。这就是说，经由强制许可而复制的布图设计或含有布图设计的集成电路，只能在授予强制许可的国家领域内进行商业利用，不得用于出口。
（4）被许可人应支付公平的使用费。
（5）强制许可的授予应受司法审查的约束，并且在导致强制许可颁发的条件消失时应予撤销。
4．善意买主
由于集成电路布图设计极为复杂细微，没有专门设备无法辨认，加之集成电路产品本身的面积很小，已制订集成电路专门立法的国家大都不要求在布图设计或集成电路上设置有关标志，因此，即使具有相当专业知识的人也难以辨认自己所购买的集成电路中是否含有他人受保护的布图设计。如果一个电子元器件销售商因不知道而且没有合理理由知道集成电路产品中含有非法复制的受保护的布图设计而销售了此种集成电路即被追究侵权责任，势必会使很多集成电路产品经销者随时面临被指控及被追究法律责任的危险，严重挫伤集成电路产品经销者的积极性，影响集成电路贸易的正常进行。为了避免这咱情况的出现，美国在其《半导体芯片法》中首先对善意买主进行了豁免，并为其他国家的相关立法树立了一个榜样。《华盛顿条约》同样采纳了此种豁免原则。
根据条约第6条第4款的规定，如果一个实施或指示实施进口、销售或其他分销行为的人，在他获得该集成电路时，不知道而且没有合理理由知道其中结合有被非法复制的布图设计，因而实施了有关行为，任何缔约方均无义务视为非法。
5．权利穷竭
根据条约第6条第5款规定，对于已被权利持有人投入或经其同意而投入市场的受保护的布图设计或结合有受保护的布图设计的集成电路，其他人的进口、销售或其他分销行为，不需要取得权利人的同意，任何缔约方得将此种行为视为合法行为。
因此，根据条约的规定，无论是布图设计还是含有布图设计的集成电路，只要经权利人或其授权的人投放市场，任何人对该布图设计或该集成电路进行的商业利用行为（不包括复制），均为合法，不构成对权利持有人的权利的侵犯。不过，行为人在援引“权利穷竭”时应注意以下三个问题：
第一，行为人行为所及的布图设计或集成电路，必须是由权利人或经权利人同意而投放市场的。如果是他人未经权利人同意而投放市场的布图设计或集成电路产品，则是侵权产品，不能援引“权利穷竭”。
第二，权利人的“权利穷竭”只针对某一个或某一些特定的布图设计或集成电路，对于那些尚未投放市场的其他布图设计或集成电路，权利人仍有权制止他人进口、销售或其他分销。
第三，权利人丧失的只是部分权利，而不是权利的全部。产品经投放市场以后，权利人只是丧失了对该产品进口、销售等商业利用的权利，但对复制权，权利人并未丧失。所以，行为人只能就该产品进行进口、销售等商业利用而无须取得权利人同意，但不得未经权利人同意而复制该产品。
1．对利用的要求
条约第7条第1款规定，任何缔约方得自行决定，对于那些未在世界任何地方单独或者以结合在集成电路里的方式进行通常的商业利用的布图设计，不予保护。
条约的这项规定就意味着，缔约方可以将正常的商业利用作为取得保护的前提条件。
2．对注册的要求
在已制订集成电路专门立法的国家中，除了英国1987年《半导体产品（布图设计保护）条例》不要求进行注册之外，其他国家均要求进行注册。有鉴于此，《华盛顿条约》并没有要求各缔约方对未经注册的布图设计进行保护。
依条约第7条第2款规定，任何缔约方可以要求将布图设计按照规定的格式向主管的公共当局提出注册申请或获得该主管当局的注册，否则即不予保护。
如果缔约方要求进行注册，则可以规定，注册的申请必须在权利持有人首次在世界任何地方将集成电路的布图设计付诸正常商业利用之日起的一定期间内提出方为有效。条约规定，这一期间不得少于权利持有人首次在世界任何地方将集成电路的布图设计付诸正常商业利用之日起的2年。
对于注册，条约规定，各缔约方可以要求支付费用。
3．披露
对于要求进行注册方给予保护的缔约国，条约规定，可以要求申请人披露一定的信息。根据条约规定，这些信息包括：
（1）申请注册的布图设计的复制品或草图；
（2）如果集成电路已经付诸商业利用，则应提交该集成电路的样品；
（3）确定集成电路意欲执行的电子功能的有关信息。
根据条约规定，如果已提交的部分足以用来确认布图设计，申请人可以不提交复制品或草图中与集成电路的制造方法有关的部分。
在这里，条约并没有试图对各缔约方的注册程序作出统一规定，原因在于许多国家对集成电路布图设计要进行实质性审查，而不仅仅是简单的注册或登记。
条约第8条规定，对集成电路布图设计的保护期至少应为8年。
到目前为止，《华盛顿条约》虽然还未生效，但它对于布图设计在国际范围内获得知识产权保护来说，仍然具有十分重要的意义。条约的缔结，标志着布图设计国际保护体系的基本形成。
《华盛顿条约》第12条对《巴黎公约》和《伯尔尼公约》作出了保护性的规定。依该条规定，本条约不影响任何缔约方根据《保护工业产权巴黎公约》或《保护文学艺术作品伯尔尼公约》应承担的义务。这表明，《华盛顿条约》既独立于《巴黎公约》体系，也独立于《伯尔尼公约》体系，是一个自成一体的国际条约。
根据条约第16条第3款的规定，任何缔约方均有权不将《华盛顿条约》适用于那些在条约对该缔约方生效时已经存在的集成电路布图设计。不过，条约的这项规定不影响此种集成电路布图设计已享有的保护。
从实际情况来看，在《华盛顿条约》之后缔结的TRIPS协议已经生效，它也对成员方保护集成电路布图设计的义务作了规定。因此，尽管《华盛顿条约》规定缔约方可以不保护那些条约对其生效时已存在的布图设计，但其根据TRIPS协议应承担的义务并不受任何影响。
除了TRIPS协议外，《华盛顿条约》是少有的几个规定了比较完整的争端解决机制的知识产权国际条约之一。
根据条约第14条的规定，缔约方在解释和实施条约时如果发生争端，首先应进行协商。一缔约方应将有关事项通知另一缔约方，并请求对方与其进行协商。被请求方应及时提供适当机会进行协商。进行协商的各缔约方应努力在合理期间内达成双方都满意的解决方案。如果通过协商在合理期间内未达成双方均满意的解决方案，争端各方可寻求友好解决争端的其他方法，如斡旋、调停、调解、仲裁等。
根据条约规定，在通过协商未能解决争端的情况下，如果没有采取其他解决方法或虽然采取但没有在合理期间内解决争端，则可以付诸专家组程序。专家组的具体程序是：先由争端任何一方当事人向大会提出书面请求，大会应建立一个由三名成员组成专家组来处理争端。专家组成员从大会设立的指定的政府专家名单中选择产生，除非经各方同意不得为争端各方的国民。专家组的授权调查范围依争端各方协议而定，若三个月内未达成协议，则由大会在与争端各方及专家组成员进行协商后确定。专家组应给予争端各方和其他有关缔约方完全的机会以提出自己的意见。如果争端双方均提出请求，专家组应停止其程序。除非争端各方在专家组终结其程序之前达成协议，专家组应及时作出书面报告，并将报告提供给予争端各方进行审查。专家组应为争端各方确定一个合理的期间，以便它们向专家组提出对报告的意见，除非它们同意在更长的期间内努力达成双方都满意的争端解决方案。专家组应考虑这些意见并及时向大会提出报告。报告应包含有事实以及解决争端的建议，如果争端各方提出了书面的意见，应一并附送。大会应及时考虑专家组的报告，并应根据其对本条约的解释及专家组的报告，向争端各方提出建议。
《华盛顿条约》是由世界知识产权组织主持缔结并管理的一个多边国际条约；TRIPS协议则属于世界贸易组织框架内的多边贸易协议中的一个，都涉及了集成电路布图设计的国际保护问题。因此，在理解《华盛顿条约》的规定时，有必要考虑到TRIPS协议的有关规定。
在世界知识产权组织就有关集成电路保护的国际条约的草案进行讨论的时候，关税及贸易总协定乌拉圭回合谈判也在紧张地进行着。在《华盛顿条约》缔结时，乌拉圭回合谈判中期评估已经结束，就全部15个议题已经达成初步协议，并进入实质性谈判阶段。《华盛顿条约》的有关规定对乌拉圭回合就与贸易有关的知识产权问题中的集成电路布图设计保护的谈判产生了重要影响。这种影响在TRIPS协议中明显地反映出来。
TRIPS协议第二部分第六节对集成电路布图设计问题作出了规定。协议首先明确，各缔约方同意按照《集成电路知识产权条约》第2条至第7条（第6条第3款除外）、第12条和第16条第3款规定对布图设计加以保护。这样，虽然《华盛顿条约》至今尚未生效，但在TRIPS协议已经生效的情况下，《华盛顿条约》事实上已经对TRIPS协议的缔约方产生了法律效力，不但扩大了条约的适用范围，而且条约的规定成为事实上的国际标准。
TRIPS协议除了对《华盛顿条约》予以确认之外，还在下述两个方面进行了扩充性的规定。
一是扩大了保护的范围。根据协议第36条的规定，除了协议另有规定的之外，成员国应将未经权利人授权而实施的下列行为视为非法：商业目的而进口、销售或以其他方式为分发受保护的布图设计、含有受保护的布图设计的集成电路以及使用了持续含有非法复制的布图设计的此种集成电路的物品。与《华盛顿条约》相比，协议增加了对那些使用了含有非法复制的布图设计的集成电路的物品的进口、销售以及其他商业性分发的禁止。
二是在扩大了保护范围的同时也加强了对善意买主的保护。根据协议第37条第1款规定，尽管有第36条的规定，一个人在获得集成电路或含有此种集成电路的物品时并不知道，而且也没有合理理由知道其中含有非法复制的布图设计，他对该含有非法复制的布图设计的集成电路或含有此种集成电路的物品正在实施的或预定实施的第36条所规定的行为，任何成员国不得视为非法。
TRIPS协议虽然对《华盛顿条约》的实体规定总体上予以保护，并在个别问题上进行了扩充，但并没有全盘接受《华盛顿条约》的规则。由于《华盛顿条约》对强制许可的要求相对于TRIPS协议对强制许可的要求低得多，所以TRIPS协议没有采纳条约有关强制许可的规定，而是要求，在强制许可问题上，各成员方应适用TRIPS协议第31条第1至第11项所规定的条件。这样，TRIPS协议对强制许可规定了非常严格的条件。
《华盛顿条约》与TRIPS协议是在法律上相互独立的两个多边国际条约，但由于TRIPS协议缔结的时间在《华盛顿条约》之后，而且世界贸易组织的影响范围比世界知识产权组织更为广泛，其机制也比世界知识产权组织机制更为有力，因此，TRIPS协议的缔结并生效，对《华盛顿条约》产生了重要的影响。
1．对《华盛顿条约》的效力的影响
到目前为止，《华盛顿条约》由于未达到条约第16条第1款规定的要求而未生效。因此，《华盛顿条约》对包括中国在内的10个批准国都还没有约束力。但是，由于TRIPSA协议将《华盛顿条约》的实体规定作为自己的规则，使这一条约事实上已经具有了约束力，并成为集成电路布图设计保护的国际标准。
2．TRIPS协议对《华盛顿条约》的适用范围的影响
我们知道，根据国际法的一般原则，国际条约只对条约的缔约方有效，对于非缔约方是没有约束力的，除非该国际条约已被普遍接受为国际法的一般准则。因此，将来《华盛顿条约》生效之后，也只能对其缔约方有约束力，对于非缔约方则没有任何约束力。但是，由于TRIPS协议要求成员国遵守《华盛顿条约》的实体规定，实际上《华盛顿条约》的实体规范的适用范围已大大超出了其自身缔约方的范围。
3．TRIPS协议对《华盛顿条约》实施的影响
《华盛顿条约》本身并没有规定缔约方如何实施条约，虽然也规定了争端的解决机制，但并无非常有力的监督实施机制。而TRIPS协议吸收了《华盛顿条约》的实体内容之后，依靠世界贸易组织的监督及争端解决机制，为集成电路国际保护的规则的实施提供了充分的保障。
本节详细介绍了《关于集成电路知识产权的华盛顿条约》缔结的背景、内容及其与其他国际条约的关系。相比较而言，这一节关于《华盛顿条约》的介绍与评价可谓本课程中最为全面的一部分。虽然如文中所叙，《华盛顿条约》缔结15年后，至今尚未生效，但由该条约确立的原则与规则却已因TRIPS协议的生效而成为关于集成电路保护的国际标准。关于集成电路布图设计保护的国内法因而也成为了知识产权领域里国别差距最小的一个领域。
本节关于TRIPS协议与《华盛顿条约》关系的介绍进一步展示了TRIPS协议的影响。学员可借此演化对前一章内容的理解和把握。
本节练习（判断题）
1．《华盛顿条约》的保护对象为集成电路及含有集成电路的制品。（错，应为“集成电路布图设计”）
2．通过正常的商业渠道购买含有受保护的布图设计的集成电路并对其进行商业性利用的，不构成对布图设计权的侵犯。（错，只有当不知道，也没有合理的理由知道该集成电路系非法制品时，对其进行商业性利用才不构成非法。）
3．布图设计权利持有人自己生产或经其同意的其他人生产的集成电路上市后，对该集成电路进行任何形式的利用都不再侵犯权利持有人的权利。（错，出于商业目的，未经许可而复制其中含有的布图设计的，仍然构成对权利持有人权利的侵犯。）
4．《华盛顿条约》规定，集成电路布图设计的保护期为8年。（错，条约规定，给予布图设计的保护期至少应为8年。）
5．TRIPS协议生效后，《华盛顿条约》已经成为该协议的一部分。（错，《华盛顿条约》与TRIPS协议是两个相互独立的国际条约。）
集成电路布图设计是随着一种新技术的产生与应用而进入保护范围的知识产权新领域。有关国家及国际社会经过反复讨论与斟酌，最终创立了一种既不同于已有的知识产权保护模式，又利用了已有知识产权保护模式中现成规则的混合型保护制度。这种制度被一些学者称为“工业版权”。到目前为止，虽然这种保护模式并没有成为其他新领域效仿的对象，但却为解决知识产权领域新问题提供了很好的思路。在后面有关数据库保护、传统知识与遗传资源保护的章节中，学员会再次体会到这种思路的意义和价值。
《华盛顿条约》形式上未生效而实质上已经生效的事实表明，国际社会在解决知识产权保护问题上有了多种选择。这一现象同时告诉我们，一项法律制度的形式并不重要，重要的是能够被用来有效地解决人们面临的问题。这也为中国的法制建设提供了有益的样板。
一、判断题
二、选择题
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